报告题目：微纳形变制造技术及光子学应用

报 告 人：李家方 教授，北京理工大学威廉希尔官网版app

报告时间：2024年1月19日（周五）下午3:00

报告地点：威廉希尔手机版登录入口新楼五楼多功能报告厅

报告摘要：

纳米精度的三维制造技术是当代光电子学和微纳光子学发展的重要基础。传统的三维微纳制造技术，如自下而上（bottom-up）、自下而上（top-down）、自组装等方法，遵循的是一种线性序列，通常采用逐层叠加二维平面来构建三维空间，结构的复杂度、分辨率和制备成本很难同时兼顾。我们借鉴传统剪纸形变原理，结合现代纳米加工工艺，采用“二维刻线+三维形变自成型”方法，发展出纳米尺度的片上、原位、立体剪纸形变加工技术。该技术既不同于增材制造，也不同于减材制造，突破了传统自下而上、自上而下、自组装等纳米加工方法在几何形貌方面的局限，成为一种快速、新型的三维微纳形变制造方法，为微纳光子学的发展提供一种新的技术途径。本报告将介绍研究团队在纳米剪纸微纳形变制造技术及光子学应用方面的研究进展，包括手性光学物理效应探索和机电可重构超表面应用，此外还将介绍一种基于锂离子电池超表面的动态彩色显示。

报告人简介：

李家方，北京理工大学威廉希尔官网版app教授、博导、副院长。2002年与2005年分别于南开大学获学士、硕士学位，2009年于澳大利亚斯威本科技大学获博士学位，2009-2018年在中科院物理所参加工作，2017年访问美国麻省理工学院，2018年调入北京理工大学。研究聚焦于三维纳米制造技术，以及微纳尺度下光与物质的相互作用。针对三维纳米制造技术难题，另辟蹊径，国际上首次实现纳米剪纸三维微纳制造技术，在Sci. Adv.、Nat. Commun.、Light等期刊上发表论文100余篇。

邀 请 人：张顺平 教授